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Nanonex NX-B100/200-纳米压印
产品概述NX-B100/B200整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证,质量可靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。基于独特专利保护的Nanonex气垫软压技术(ACP
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Nanonex纳米压印系统NX-2500
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Nanonex纳米压印系统NX-2500
Nanonex纳米压印系统NX-2500产品特点:1、 热塑化2、 紫外固化3、 热压与紫外压印同时进行4、 热固化5、气垫软压技术(ACP)6、Nanonex专利技术7、 完美的整片基板纳米压印
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Imprint Nano纳米压印
纳米压印的技术与工艺特点,独创性地设计和制备工作于低真空环境下,结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的,通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印
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多功能整片基板纳米压印系统
NX-B100/B200整片基板纳米压印系统经过了大量的实时实地验证,质量可 靠,性能优越稳定。具备全部压印模式:热固化、紫外固化和压印。
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纳米压印和高分辨率光刻系统
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纳米压印系统
Nanonex由纳米压印领域先行者、普林斯顿大学周郁教授(Prof. Stephen Y. Chou)于1999年创立,其核心技术为周教授的研究团队历时八年、花费数百万美元科研经费完成的
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纳米压印设备之热压印:EVG510HE
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帕克 NX-Mask 掩模修补系统
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Nanonex Lumina-200
Lumina-200独立式高分辨率光刻/对准器。 Lumina系列为电子,光电,MEMS和许多其他应用中的高分辨率,精确对准,接触和接近光刻提供了高质量,可靠且经济高效的解决方案。 它具有易于使用的
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